001 光刻设备和校准方法及器件制造方法 002 使用空间光调制器阵列的无掩模光刻系统和方法 003 在无掩模微影术系统中产生灰度调整的系统和方法 004 采用光致抗蚀剂形成均匀的特征的方法 005 光刻装置和器件制造方法 006 光刻装置,器件制造方法及使用该方法制造的器件 007 光刻装置 008 光刻装置和器件制造方法 009 基板处理装置及基板交接位置的调整方法 010 曝光装置的曝光方法 011 元件的制备方法、制备的元件、光刻装置以及器件制造方法 012 浸入式光刻系统及使用微通道喷嘴的方法 013 用于无掩模光刻的投射光学系统 014 光刻装置以及器件制造方法 015 大型薄壳的支撑装置及附属装置 016 光刻装置和器件制作方法 017 光刻装置和器件制造方法 018 使用光束成型获取椭圆及圆化形状之方法 019 微石印术用光刻胶组合物中的光酸产生剂 020 利用激光束的识别码的打印方法和装置 021 基于旋涂和键合实现微纳米图案转移的方法 022 基于硅衬底的聚合物光波导器件的制作方法 023 光刻胶修整方法 024 步进扫描光刻机连续扫描同步控制方法和系统 025 利用纳米球模板制备单元尺寸可控的纳米点阵列的方法 026 改进采用微胶囊的感光成象介质感光度响应的方法 027 一种掩膜制造方法 028 光刻用掩模护层 029 光学光刻方法 030 图像记录材料和平版印刷版 031 含有2,1,4-重氮萘醌磺酰基的光、热、电子束产酸源及其制备方法 032 正型光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法 033 光聚合组合物和图像记录材料 034 碱溶性聚合物及其可聚合组合物 035 光阻帮浦喷洒侦测电路及其系统 036 照明源和掩模优化 037 用带构图的发射器进行发射光刻的方法和装置 038 蚀刻方法及使用蚀刻方法的电路装置的制造方法 039 光刻装置和器件制造方法 040 将表膜框架贴附到调制盘 041 光刻装置和器件制造方法 042 光刻装置和一种补偿光刻装置中热变形的方法 043 光刻装置和器件制造方法 044 光刻装置及器件制造方法 045 光刻装置,器件制造方法以及由此制造的器件 046 用于除去与铜相容的抗蚀剂的组合物和方法 047 光学接近修正方法 048 图像记录装置 049 含有一种潜酸的聚合物材料 050 正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图形的方法 051 形成细微图案的方法 052 三维立体掩膜 053 感光组成物及使用感光组成物制作的平印版 054 光刻抗反射硬掩模合成物及其使用 055 光敏性树脂组合物,光敏性元件,防蚀图形及其制法和叠层基板 056 图像记录材料和平版印刷版 057 带有平衡块消振装置的超精密硅片定位系统 058 衬底曝光方法和光刻投影设备 059 半色调型相移掩膜坯料、半色调型相移掩膜及其制造方法 060 感光性树脂组合物及其用途 061 成像设备 062 缺陷像素补偿方法 063 印刷版材料、印刷版原版、印刷版的制作方法、印刷方法以及印刷版材料的制造方... 064 光敏平版印刷版及其制备方法 065 一种纳米图形以及碳纳米管生物纳米芯片的制备方法 066 图案形成法和光学元件 067 光学元件的形成方法 068 光刻装置和器件制造方法 069 光敏柔性印刷材料及制造报纸用柔性印刷版的方法 070 感光性树脂组合物、使用该组合物的感光性薄膜及层压体 071 正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法 072 利用截面分析确定聚焦中心 073 形成精细抗蚀图形的方法 074 制作晶圆试片的方法及评估光罩图案间迭对位准的方法 075 干燥薄膜光阻剂 076 预敏化版和平版印刷方法 077 用于平版印刷版的载体和预敏化版 078 利用超分子的自组装和金属化合物着色制备碳纳米管芯片和生物芯片的方法 079 热绝缘的光学装置 080 光刻机像质检测技术中曝光剂量范围的确定方法 081 光刻设备、器件制造方法、及由此制造的器件 082 外缘型态相移光罩的自对准方法 083 在0相与180相区域周围形成边界区域以增强透明电场相移位光罩的方法 084 增强相移位光罩的方法 085 图像形成方法和装置 086 无掩膜光子电子点格栅阵列光刻机 087 衰减相移掩模坯件和光掩模 088 光掩模及其制造方法和使用光掩模的半导体装置制造方法 089 半导体晶圆制造所使用相位移转光罩的图案制作方法与其结构 090 薄片和薄片用框 091 光致抗蚀剂组合物 092 感光性树脂组合物以及使用其的图案形成方法 093 排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 094 正型光致抗蚀剂组合物 095 热敏CTP版材用成像组合物、用于该组合物的产酸源及其制备 096 化学放大型正光刻胶组合物及其树脂 097 对准标记的形成方法、构成器件的基板、以及使用该基板的液体排出头 098 蚀刻方法和记录用于控制该方法的程序的计算机记录媒体 099 在晶体内部写入套刻光栅的方法 100 光刻装置和器件制造方法 101 用于去除感光树脂的稀释剂组合物 102 工件构图方法和装置 103 形成光学图像的方法、本方法用的衍射部件、实行所述方法的设备 104 曝光装置检查用掩模、曝光装置检查方法和曝光装置 105 集成电路适用的模块化光学近接校正配置及其方法 106 光掩模及图案形成方法 107 维持微影制程容许度的方法 108 光致抗蚀剂聚合物及包含其的光致抗蚀剂组合物 109 排出喷嘴式涂敷法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 110 光刻胶三维刻蚀过程模拟的动态元胞自动机方法 111 用于给反射镜提供动态保护层的方法和设备 112 衬底的处理方法及用于该方法的药液 113 一种无肼刻蚀液 114 具有高耐热性的光致抗蚀剂组合物 115 优化至少两个光学元件成像特性的方法以及照相平版制造法 116 生物电子CARL:使用导电层之基材连结 117 偏振膜高分辨力掩模板 118 抗蚀剂聚合物,抗蚀剂组合物和布线图案制作方法 119 普通光源紧贴式纳米光刻光学装置 120 声光调频一次曝光成像干涉光刻方法及其系统 121 一种用原子光刻技术制作高密度纳米结构的方法 122 用于电子束投影光刻系统的发射器及其制造和操作方法 123 图案的形成 124 在气体环境中执行曝光处理的基片处理系统 125 多光子光敏化系统 126 适用作光刻胶的可紫外线固化的粉末 127 图案化金属层的方法与金属内连线的制造方法 128 用于光致抗蚀的保护涂层组合物和用其形成光致抗蚀图案的方法 129 系统LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 130 黑色感光性树脂组合物 131 以感光性ITO溶液形成ITO图案的方法 132 控制蚀刻工序的精确度和再现性的方法 133 在用于光电子器件的III-V族化合物中蚀刻光滑侧壁的方法 134 光刻设备和器件制造方法以及测量系统 135 组件、光刻装置和器件制造方法 136 在光刻装置中的反射镜应用顶层,用于光刻装置中的反射镜,包括这种反射镜的光... 137 包含光敏酸发生物质单体的组合物及用其包被的载体及其应用 138 用于图案细微化的涂膜形成剂和使用该形成剂形成细微图案的方法 139 着色感光性树脂组合物 140 光刻装置及器件制造方法 141 控制液体假配发的方法与系统 142 抗蚀图的形成方法、制造母版信息载体的方法和磁记录介质 143 执行基于模型的光刻校正的方法 144 执行基于模型的光邻近校正的方法 145 印刷电路板的制造方法 146 执行基于模型的光学邻近校正的方法 147 扩展光刻模拟积分范围的方法 148 光刻装置和器件制造方法 149 光刻装置和器件制造方法 150 光刻装置 151 印刷电路基板表面胶膜的自动剥除法及其装置 152 具有微影光阻检测图案的光刻及其检测方法 153 测试掩模结构 154 适用于液体浸润式微影中的具抗腐蚀层的接物透镜 155 电光装置用基板、电光装置及其制造方法、和电子设备 156 光刻装置和器件制造方法 157 光刻装置及器件制造方法 158 光刻装置和器件制造方法 159 光刻装置和器件制造方法 160 光学元件、包括这种光学元件的光刻设备及器件制造方法 161 光致抗蚀剂处理方法 162 采用直写纳米刻蚀印刷的固态部件的图案化 163 负性深紫外光刻胶 164 使用第一最小值底部抗反射涂层组合物制备图像的方法 165 负性作用可光成像底部抗反射涂层 166 一种用于正性或负性光刻胶的清洗剂组合物 167 电光装置、电光装置用基板及制造方法、曝光掩模及电子设备 168 利用象场图产生辅助特征的方法、程序产品和装置 169 光刻装置和器件制造方法 170 印模,方法和设备 171 光致抗蚀剂用显影液 172 光致抗蚀剂用显影液 173 多色调光掩模及其制造方法 174 用于旋涂抗反射涂层/硬掩膜材料的含硅组合物 175 曝光用掩膜、它的制造方法及曝光方法 176 多层超微压印平版印刷 177 带有给体的光敏剂的用途 178 光致抗蚀剂组合物及形成光致抗蚀剂图案的方法 179 带有环状缩酮保护基的含硅光刻胶体系 180 对应于基板伸缩的印刷电路板用曝光装置 181 辐射检测器 182 珀耳帖模块及其制造方法 183 用于相移光刻掩模的光学接近校正 184 碱和表面活性剂,以及它们在用于微型平板印刷的光致抗蚀剂组合物中的用途 185 使用双波长形成自动对准图案的方法 186 包括其中的遮蔽元件的光掩模及相关的方法与系统 187 一种分色页面描述灰度光栅化的方法 188 正型感光性组合物 189 投影光学光刻偏振成像系统 190 聚二甲基硅氧烷微流控芯片复型光固化树脂模具制作方法 191 扫描仪线性测试器 192 屏蔽的避免像差屏蔽布局的制造方法 193 包含添加剂用于深UV辐射的光刻胶组合物 194 一种制造微机电系统(MEMS)器件结构的方法 195 一种用于打印机的线圆形网点的生成方法 196 一种用于凹印制版的无缝混合网点挂网方法 197 真空负压纳米压印装置 198 真空负压纳米压印方法 199 开环易位共聚物氢化物及其制造方法 200 浸没式光刻系统和制造半导体元件的方法 201 制备基底的方法,测量方法,器件制造方法,光刻装置,计算机程序和基底 202 曝光装置的照度不匀度的测定方法和修正方法 203 用晶体材料制造透镜 204 无铬膜层相位移光罩及其制造方法与制造半导体装置方法 205 多样化产品的黄光制作过程误差校正方法 206 危险图形抽出方法、程序和半导体器件的制造方法 |
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