站内编号   专利名称
[CHL01-040-001] 对中机构、对中装置、半导体制造装置及对中方法
[CHL01-040-002] 可变电阻器件、可变电阻储存器的制造方法及储存器
[CHL01-040-003] 形成隔离装置的方法
[CHL01-040-004] 镶嵌式铜金属内联机的制作方法
[CHL01-040-005] 改善双嵌入式层间金属介电层表面平坦度的方法
[CHL01-040-006] 快速程序对程序验证的方法
[CHL01-040-007] 集成电路之制造方法
[CHL01-040-008] 促进快闪式存储器性能的方法
[CHL01-040-009] 三维只读存储器的设计
[CHL01-040-010] 缓冲器的配置方法及其芯片
[CHL01-040-011] 用于生产CMOS器件的方法
[CHL01-040-012] 堆栈闸极快闪存储装置的制造方法
[CHL01-040-013] 堆栈闸极快闪存储装置的制造方法
[CHL01-040-014] 分离闸极快闪存储器的制造方法
[CHL01-040-015] 热量分散器
[CHL01-040-016] 半导体构装与其制造方法
[CHL01-040-017] 半导体元件及其制造方法，和半导体器件及其制造方法
[CHL01-040-018] 晶圆结构
[CHL01-040-019] 一种静电放电防护组件及静电放电防护电路
[CHL01-040-020] 分离闸极快闪存储装置及其制造方法
[CHL01-040-021] 分离闸极快闪存储装置及其制造方法
[CHL01-040-022] 具有量子点的存储器及其制造方法
[CHL01-040-023] 混合照光区的互补式金氧半影像传感器结构及其电位读取方法
[CHL01-040-024] 可降低暗电流的互补式金氧半图像传感器结构及其布局方法
[CHL01-040-025] 可增加填满系数的互补式金氧半影像传感器结构
[CHL01-040-026] 主动式互补金氧半导体像素装置及其制造方法
[CHL01-040-027] 平面检测型固体摄像装置
[CHL01-040-028] 半导体器件及其制造方法
[CHL01-040-029] 具有天线的半导体元件
[CHL01-040-030] 闸极组件及其制造方法
[CHL01-040-031] 光电元件及其制造方法
[CHL01-040-032] 发光二极管
[CHL01-040-033] 含有保护层的有机半导体场效应晶体管及制作方法
[CHL01-040-034] 半导体器件的制造方法
[CHL01-040-035] 半导体晶片的制造方法
[CHL01-040-036] 化学机械抛光用研磨剂
[CHL01-040-037] 被处理体的保持装置
[CHL01-040-038] 用于不同深度的沟槽隔离的控制井泄漏的方法
[CHL01-040-039] 用于高效像素化有机电子设备的高电阻导电聚合物
[CHL01-040-040] 超延迟编程ROM及制造方法
[CHL01-040-041] 发光器件
[CHL01-040-042] 具有部分隔离的源/漏结的场效应晶体管结构及其制造方法
[CHL01-040-043] 发光二极管芯片及其制造方法
[CHL01-040-044] 压电弯曲变换器
[CHL01-040-045] 磁阻效应元件与利用此磁阻效应元件的磁阻效应型磁头及磁存储与还原装置
[CHL01-040-046] 作为稳定空穴-注入电极用于高效有机电子器件的多层结构
[CHL01-040-047] 有机电子设备中的溶液处理的有机电活性层的热处理
[CHL01-040-048] 晶片制备系统和晶片制备方法
[CHL01-040-049] 晶片粘接时用于经加热基板的机械夹持器
[CHL01-040-050] 非晶金属氧化物栅介质结构及其方法
[CHL01-040-051] 具有锑注入的高频晶体管器件及其制造方法
[CHL01-040-052] 用于穿通非外延型绝缘栅双极型晶体管的缓冲区的氢注入
[CHL01-040-053] 等离子体处理系统中腐蚀终点的确定方法和确定装置
[CHL01-040-054] 具有电镀电阻器的印刷电路板的制造方法
[CHL01-040-055] 光电子元件和制造方法
[CHL01-040-056] 在GaN基板上的发光二极管芯片和用GaN基板上的发光二极管芯片制造发光二...
[CHL01-040-057] 带有耦合输出结构的发光二极管
[CHL01-040-058] 中介方法
[CHL01-040-059] 用流体分离组合元件的方法和装置
[CHL01-040-060] 生产松弛SiGe基质的方法
[CHL01-040-061] 氮化物半导体，半导体器件及其制造方法
[CHL01-040-062] 半导体装置的制造方法
[CHL01-040-063] 基板清洗方法和清洗装置
[CHL01-040-064] 射频等离子体处理方法和射频等离子体处理系统
[CHL01-040-065] 在半导体应用的电沉积铜中缺陷的降低
[CHL01-040-066] 半导体器件的制造方法
[CHL01-040-067] 具接地参考电位功能的散热板用于散热型芯片塑料封装的制法
[CHL01-040-068] 焊球植入装置
[CHL01-040-069] 识别器件传送系统的工作高度的装置和方法
[CHL01-040-070] 在半导体基底上隔离元件的方法
[CHL01-040-071] 微浅绝缘沟槽结构制备法
[CHL01-040-072] 沉积绝缘层于沟槽中的装置
[CHL01-040-073] 光刻编程集成电路
[CHL01-040-074] 半导体装置的制造方法
[CHL01-040-075] 决定加工参数、决定加工参数和设计规则至少一方的方法
[CHL01-040-076] 多层半导体器件及其制造方法
[CHL01-040-077] COF柔性印刷线路板及制造该线路板的方法
[CHL01-040-078] 固态发光装置封装的散热构件及其制造方法
[CHL01-040-079] 一种半导体器件和一种制造该器件的方法
[CHL01-040-080] 电子装置
[CHL01-040-081] 配置具有孔的布线的半导体器件及其制造方法
[CHL01-040-082] 双镶嵌制程
[CHL01-040-083] 半导体器件及其制造方法
[CHL01-040-084] 半导体组件
[CHL01-040-085] 存储器系统和制造该存储器系统的方法
[CHL01-040-086] 半导体器件及其制作方法
[CHL01-040-087] 半导体装置及其制造方法
[CHL01-040-088] 薄膜半导体器件及其制造该器件的方法
[CHL01-040-089] 多晶存储结构,形成该结构的方法,和使用该结构的半导体存储装置
[CHL01-040-090] 存储器集成电路
[CHL01-040-091] 具有电位控制电路的半导体存储器
[CHL01-040-092] 半导体元件和使用半导体元件的半导体装置
[CHL01-040-093] 电荷传输装置
[CHL01-040-094] 固态摄像元件及其制造方法
[CHL01-040-095] 薄膜晶体管及其制造方法
[CHL01-040-096] 高承受力二极管及其制备方法和用途
[CHL01-040-097] 染料敏化纳米薄膜太阳电池用电解质溶液
[CHL01-040-098] 染料敏化纳米薄膜太阳电池电极的制备方法
[CHL01-040-099] 新型纳米多孔薄膜及其制备方法
[CHL01-040-100] 半导体器件的制造方法及半导体器件
[CHL01-040-101] 染料敏化纳米薄膜太阳电池的密封方法
[CHL01-040-102] 用于制造GaN基底的装置及其制造方法
[CHL01-040-103] 一种巨磁阻抗效应复合丝及其制备方法
[CHL01-040-104] 有机材料从给予体转移形成有机发光二极管装置中的一层
[CHL01-040-105] 一种晶体的激光定向方法
[CHL01-040-106] 激光装置、激光辐射方法及半导体器件及其制造方法
[CHL01-040-107] 掩模基板及其制造方法
[CHL01-040-108] 在半导体晶片上生长薄膜的蒸发方法
[CHL01-040-109] 半导体薄膜的形成方法和半导体薄膜的形成装置
[CHL01-040-110] 气相流体运送系统的流体加热注入装置
[CHL01-040-111] 在离子注入器中调节离子束平行的方法和设备
[CHL01-040-112] 洁净与干燥半导体晶圆的方法与装置
[CHL01-040-113] 激光辐照装置、激光辐照方法和制作半导体器件的方法
[CHL01-040-114] 抑制半导体器件的短信道效应的方法
[CHL01-040-115] 半导体晶片、半导体装置和它们的制造方法、电路板和仪器
[CHL01-040-116] 布线基板及其制造方法、半导体装置以及电子机器
[CHL01-040-117] 半导体器件及其制造和检查的方法与设备
[CHL01-040-118] 半导体装置及其制造方法、电路板和电子仪器
[CHL01-040-119] 电子元件装置用粘接剂
[CHL01-040-120] 半导体装置的制造方法
[CHL01-040-121] 超声波漏斗型辐射体及使用该超声波漏斗型辐射体的超声波接合装置
[CHL01-040-122] 台架定位及其控制、曝光装置和半导体器件的制造方法
[CHL01-040-123] 动态随机存取存储器的电容器的制造方法
[CHL01-040-124] 垂直型半导体可变电阻装置及其制造方法
[CHL01-040-125] 半导体装置及其制造方法
[CHL01-040-126] 一种非易失性存储单元的编程及擦除方法
[CHL01-040-127] 半导体集成电路的设计方法和测试方法
[CHL01-040-128] 快闪记忆体及其制造方法
[CHL01-040-129] 半导体器件及其制造方法
[CHL01-040-130] 带有散热板的电子产品
[CHL01-040-131] 半导体器件
[CHL01-040-132] 布线基板及带状布线基板的制造方法
[CHL01-040-133] 布线基板及其制造方法、电子部件和电子仪器
[CHL01-040-134] 半导体器件
[CHL01-040-135] 半导体装置及其制造方法、电路板和电子仪器
[CHL01-040-136] 半导体装置及其制造方法
[CHL01-040-137] 半导体装置
[CHL01-040-138] 电子元件及其它的制造方法
[CHL01-040-139] 半导体堆叠构装元件
[CHL01-040-140] 半导体器件及其制造方法
[CHL01-040-141] 半导体装置及其制造方法、电路板和电子仪器
[CHL01-040-142] 半导体器件用电容器、其制造方法及采用它的电子器件
[CHL01-040-143] 半导体存储器
[CHL01-040-144] 高抗辐射的电可擦去可编程只读存储器晶胞
[CHL01-040-145] 光模件
[CHL01-040-146] 场效应晶体管器件
[CHL01-040-147] 薄膜晶体管及具有该薄膜晶体管之显示装置
[CHL01-040-148] 薄膜晶体管及其制作方法
[CHL01-040-149] 透明电极的基片
[CHL01-040-150] 高效低成本大面积晶体硅太阳电池工艺
[CHL01-040-151] 干燥洗涤物的装置和方法
[CHL01-040-152] 氧化铟膜的形成方法、具有氧化铟膜的衬底及半导体元件
[CHL01-040-153] 一种在硅片上制备高效硅基发光薄膜的方法
[CHL01-040-154] 电子装置的制造方法
[CHL01-040-155] 半导体器件的制造方法和半导体器件的制造装置
[CHL01-040-156] 碲镉汞材料离子注入P-N结产生损伤的修复方法
[CHL01-040-157] 半导体装置的制造方法
[CHL01-040-158] 制造半导体器件的方法
[CHL01-040-159] 薄半导体芯片及其制造方法
[CHL01-040-160] 引线框的制造方法
[CHL01-040-161] 软式封装构造及其制作方法
[CHL01-040-162] 半导体装置及电子装置的制造方法、焊接条件的计算方法
[CHL01-040-163] 晶圆表面与工艺微粒与缺陷的监控方法
[CHL01-040-164] 在快闪存储器元件中形成自行对准掩埋N+型式区域的方法
[CHL01-040-165] 形成浅沟槽隔离区的方法
[CHL01-040-166] 在形成有导电结构的半导体基底表面形成双镶嵌结构的方法
[CHL01-040-167] 用于内存上全芯片器件设计方法
[CHL01-040-168] 将管芯附着到衬底上的方法
[CHL01-040-169] 封装基板
[CHL01-040-170] 散热翅片、热管或穿管、母板金属一体化散热器
[CHL01-040-171] 器件和制造集成电路的方法
[CHL01-040-172] 半导体器件及其制造方法
[CHL01-040-173] 可变电容及其制造方法
[CHL01-040-174] 半导体装置
[CHL01-040-175] 半导体装置
[CHL01-040-176] 柔性混合存储元件
[CHL01-040-177] MOS晶体管组件
[CHL01-040-178] 绝缘层上覆硅单晶芯片结构及其制造方法
[CHL01-040-179] 光电转换装置及其制造方法
[CHL01-040-180] 液冷式发光二极管及其封装方法
[CHL01-040-181] 薄膜压电元件的制造方法和元件收纳夹具
[CHL01-040-182] 晶片处理装置和晶片平台以及晶片处理方法
[CHL01-040-183] 半导体装置的制造方法
[CHL01-040-184] 在半导体晶片上生长薄膜的蒸发法
[CHL01-040-185] 缩小图案间隙且确保该间隙的方法
[CHL01-040-186] 一种厚膜绝缘层上硅材料的制备方法
[CHL01-040-187] 一种P－ZnO薄膜及其制备方法
[CHL01-040-188] 平行度优于1秒的晶体材料偏心抛光方法
[CHL01-040-189] 基板处理装置和基板处理方法
[CHL01-040-190] 多晶硅间介电层的制造方法
[CHL01-040-191] 电路板的制造方法以及制造装置
[CHL01-040-192] 金属板及其成形方法
[CHL01-040-193] 用于球栅阵列芯片的固定装置
[CHL01-040-194] 指纹传感器设备及其制造方法
[CHL01-040-195] 射频台式硅二极管电泳沉积玻璃钝化共形膜制备方法
[CHL01-040-196] 凸点的形成方法、带凸点的半导体元件及其制造方法、半导体装置及其制造方法、...
[CHL01-040-197] 半导体装置及其制造方法、电路板以及电子机器
[CHL01-040-198] 半导体装置及其制造方法、电路板以及电子机器
[CHL01-040-199] 半导体装置及其制造方法和电子机器
[CHL01-040-200] 激光直接钎料凸点制作方法
[CHL01-040-201] 一种后浅槽隔离工艺方法
[CHL01-040-202] 多层配线装置和配线方法以及配线特性分析和预测方法
[CHL01-040-203] 具有扫描设计可测试性性能的非扫描设计测试点结构
[CHL01-040-204] 结合自我对准接触制程以及自我对准硅化物制程的方法
[CHL01-040-205] 半导体器件及其制造方法
[CHL01-040-206] 半导体装置及其制造方法、电路板和电子仪器
[CHL01-040-207] 半导体器件基底及其制造方法及半导体封装件
[CHL01-040-208] 半导体装置及其制造方法、电路板和电子仪器
[CHL01-040-209] 利用散热器护罩散热的散热器装置
[CHL01-040-210] 半导体装置
[CHL01-040-211] 半导体装置、设计方法及记录其装置设计程序的记录媒体
[CHL01-040-212] 固体摄像装置
[CHL01-040-213] 可避免产生漏电流的MOS管结构及具有该结构的CMOS影像管
[CHL01-040-214] 沟道蚀刻薄膜晶体管
[CHL01-040-215] 半导体器件及其制造的方法
[CHL01-040-216] 一种肖特基二极管的原型器件及其制备方法
[CHL01-040-217] 太阳电池片与抗辐照玻璃盖片的自动封装方法
[CHL01-040-218] 具有受吸气层保护的氢退化介电层的集成电容器件
[CHL01-040-219] 一种制造多位存储器单元的方法